美國專利再頒程序介紹及審查標(biāo)準(zhǔn)

        一、概述

        由于專利撰寫工作的復(fù)雜性和精確性，最終授權(quán)的專利證書不可避免會存在缺陷。對于這種情況，美國專利法中規(guī)定，專利申請人提交的文件中有缺陷導(dǎo)致專利權(quán)全部或者部分不能實施或無效的，可以通過專利再頒程序，經(jīng)過修改再重新授予專利權(quán)。
 
        美國專利的再頒程序是指允許專利權(quán)人從專利正式授權(quán)日開始，重新申請啟動該申請的審查。
        這樣，專利權(quán)人可以修改當(dāng)前授權(quán)專利中的錯誤，或擴(kuò)大或縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
 
        專利再頒程序是修正授權(quán)專利錯誤的一種重要手段。另外，通過再頒申請可以擴(kuò)大權(quán)利要求的保護(hù)范圍，也是為專利訴訟和許可事務(wù)服務(wù)的常見策略。
 
        再頒程序只能由專利權(quán)人啟動。
 
        二、專利再頒的審查標(biāo)準(zhǔn)

        1、由于疏忽、事故或者差錯而導(dǎo)致專利證書有錯誤。

        2、該錯誤會導(dǎo)致初始專利完全地或部分地?zé)o效或無法實施，如：說明書或附圖中的錯誤使專利無法實施，或由于專利權(quán)要求的權(quán)利多于他有權(quán)要求的。

        3、原專利的錯誤不含有故意欺騙意圖，如，錯誤的出現(xiàn)不是有意為了隱藏技術(shù)方案的內(nèi)容。

        4、再頒專利中不能夠加入新內(nèi)容，即再頒專利必須得到原說明書公開內(nèi)容的支持。

        5、對于擴(kuò)大保護(hù)范圍的再頒專利，其申請應(yīng)當(dāng)在原專利授權(quán)日起兩年內(nèi)提出。

        6、對于縮小權(quán)利范圍的再頒請求，因為不會影響到公眾利益，所以法定給予充分的時間提出，即可以在專利有效期間的任何時候提出。

        三、再頒專利的效力和期限

        不同類型的再頒專利法律效力各不相同。
 
        （一）保護(hù)范圍不變或縮小的：權(quán)利要求效力與原來相同，有效期自原專利授權(quán)公告日起算。

        （二）保護(hù)范圍擴(kuò)大的：擴(kuò)大部分的權(quán)利要求，如果自原專利授權(quán)公告日至再頒專利授權(quán)公告日之間，他人實施了該擴(kuò)大部分的內(nèi)容，分以下幾種情況：

        1、生產(chǎn)制造產(chǎn)品的，可以繼續(xù)銷售或使用該產(chǎn)品，不受再頒專利的限制，但是不能繼續(xù)制造新產(chǎn)品。
        2、再頒專利為方法專利，美國法院可以準(zhǔn)許繼續(xù)實施在再頒專利獲得前已經(jīng)實施或已經(jīng)做好實質(zhì)準(zhǔn)備實施、被再頒專利覆蓋的方法，其范圍和期限以法院認(rèn)為對于保護(hù)再頒專利前已經(jīng)做出的投資和已經(jīng)開始的業(yè)務(wù)是公平的為準(zhǔn)。
        
        但不論是何種類型的再頒申請，再頒專利的有效期限始終為原專利期限的剩余部分。
 
        四、再頒專利的優(yōu)缺點

        優(yōu)點：
        再頒程序允許專利權(quán)人在不超出原申請范圍的前提下對專利中的各種錯誤進(jìn)行修改，專利權(quán)人可以通過再頒程序拓寬或縮窄權(quán)利要求、改正說明書和附圖錯誤、修改發(fā)明人關(guān)系等，審查通過后授予的再頒專利與原始專利具有同等效力。 
        如果拓寬的權(quán)利要求符合美國專利法第112條（a）款的規(guī)定，能夠得到說明書的支持，則專利權(quán)人可以利用再頒程序向其專利加入特別針對競爭者產(chǎn)品的新的權(quán)利要求，起到限制競爭對手的作用。
 
        缺點：
        申請再頒程序以后，專利的所有權(quán)利要求都會被重新審查，相當(dāng)于一個新申請，經(jīng)過重新審查，有可能被駁回。并且，經(jīng)歷再頒程序的專利申請一旦被授權(quán)，原專利權(quán)就不復(fù)存在。
        另外，一旦申請再頒程序，就相當(dāng)于專利權(quán)人變相承認(rèn)其原來的專利存在“全部或部分不能實施或無效”的情形，這會引起法院和競爭者的注意，使得專利權(quán)人在今后的專利訴訟中處于不利地位。